Personnaliser

OK

Informations importantes : Arrêt du Club R (13 août) et Cessation d'Activité (30 septembre)

En savoir plus.

The Mos System - Olof Engström

Note : 0

0 avis
  • Soyez le premier à donner un avis
Aucun vendeur ne propose ce produit

Soyez informé(e) par e-mail dès l'arrivée de cet article

Créer une alerte prix
Publicité
 
Vous avez choisi le retrait chez le vendeur à
  • Payez directement sur Rakuten (CB, PayPal, 4xCB...)
  • Récupérez le produit directement chez le vendeur
  • Rakuten vous rembourse en cas de problème

Gratuit et sans engagement

Félicitations !

Nous sommes heureux de vous compter parmi nos membres du Club Rakuten !

En savoir plus

Retour

Horaires

      Note :


      Avis sur The Mos System de Olof Engström Format Relié  - Livre

      Note : 0 0 avis sur The Mos System de Olof Engström Format Relié  - Livre

      Les avis publiés font l'objet d'un contrôle automatisé de Rakuten.


      Présentation The Mos System de Olof Engström Format Relié

       - Livre

      Livre - Olof Engström - 01/11/2014 - Relié - Langue : Anglais

      . .

    • Auteur(s) : Olof Engström
    • Editeur : Cambridge University Press
    • Langue : Anglais
    • Parution : 01/11/2014
    • Format : Moyen, de 350g à 1kg
    • Nombre de pages : 364
    • Expédition : 862
    • Dimensions : 24.6 x 17.3 x 2.3
    • ISBN : 9781107005938



    • Résumé :
      A detailed, up-to-date guide to modern MOS transistors, describing key tools, cutting-edge models, novel phenomena and current challenges.

      Biographie:
      Olof Engstr?m is Professor Emeritus of Microtechnology and Nanoscience, Chalmers University of Technology, G?teborg, Sweden, having formerly held positions in industrial high-power MOS devices and sensors. His research focuses on semiconductor quantum structures and interfaces. He is a member of the Royal Swedish Academy of Engineering Sciences.

      Sommaire:
      1. Introduction; 2. Basic properties of the MOS system; 3. Basic properties of the gate stack; 4. Electron states at MOS interfaces; 5. Carrier capture at bulk oxide traps; 6. Electrical characterization by Fermi-probe technique; 7. Electrical characterization by thermal action; 8. Characterization of oxide/silicon energy band alignment: internal photoemission and x-ray photoelectron spectroscopy; 9. Electron spin resonance; 10. MOS systems with silicon dioxide dielectrics; 11. MOS systems with high-k dielectrics; 12. Gate metals and effective work function; 13. Transmission probabilities and current leakage in gate oxides; 14. MOS systems on high-mobility channel materials.

      Le choixNeuf et occasion
      Le service clientsÀ votre écoute
      LinkedinFacebookTwitterInstagramYoutubePinterestTiktok
      visavisa
      mastercardmastercard
      klarnaklarna
      paypalpaypal
      floafloa
      americanexpressamericanexpress
      Rakuten Logo
      • Rakuten Kobo
      • Rakuten TV
      • Rakuten Viber
      • Rakuten Viki
      • Plus de services
      • À propos de Rakuten
      Rakuten.com