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Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Adeleke, Oluwatobi

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        Avis sur Machine Learning - Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes de Adeleke, Oluwatobi Format Broché  - Livre Technologie

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        Présentation Machine Learning - Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes de Adeleke, Oluwatobi Format Broché

         - Livre Technologie

        Livre Technologie - Adeleke, Oluwatobi - 01/05/2025 - Broché - Langue : Anglais

        . .

      • Auteur(s) : Adeleke, Oluwatobi - Jen, Tien-Chien - Karimzadeh, Sina
      • Editeur : Crc Press
      • Langue : Anglais
      • Parution : 01/05/2025
      • Format : Moyen, de 350g à 1kg
      • Nombre de pages : 378.0
      • ISBN : 1032386738



      • Résumé :

        Part 1: Introduction to Atomic Layer Deposition. 1. Overview of Atomic Layer Deposition and Thin Film Technology. 2. State of the Art Modeling and Simulation Approaches in ALD. 3. Characterization Methods in ALD. 4. Industry 4.0, Manufacturing Sector and Thin Film Technology. Part 2: Machine Learning Techniques. 5. Fundamentals of Machine Learning. 6. Supervised Learning. 7. Unsupervised Learning. 8. Deep Learning. 9. Hard and Soft Computing. Part 3: Machine Learning Applications in Atomic Layer Deposition. 10. Why Machine Learning? 11. Machine-Learning Based Predictive Analysis in ALD. 12. Machine Learning-Based Classification Techniques in ALD. 13. Deep Learning in Atomic Layer Deposition. 14. Feature Engineering in Atomic Layer Deposition. 15. Limitations, Opportunities, and Future Directions.

        ...

        Sommaire:
        This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control....

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